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【產品介紹】
CIK研磨式分散機，是由膠體磨+分散機結合而成的設備，主要是為了解決納米級物料的分散，如：納米碳酸鈣、納米氫氧化鎂、納米氧化鋁、石墨烯、碳納米管等納米級物料的分散。
CDL2000系列研磨分散設備是CIK（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，4P，6F，8SF等六種乳化頭供客戶選擇）
設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti
分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器
六種不同的分散頭組合：2P，2G，4M，4P，6F，8SF
產品選型表：
型號 | zui大處理量 L/H | 輸出轉速 rpm | 標準線速度 m/s | 馬達功率 KW | 進出口尺寸 |
CDL2000/4 | 300-1000 | 9，000 | 23 | 2,.2 | DN25/DN15 |
CDL2000/5 | 3，000 | 6，000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
CDL2000/10 | 8，000 | 4，200 | 23 | 15 | DN50/DN50 |
CDL2000/20 | 20，000 | 3，000 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
CDL2000/30 | 40，000 | 1，500 | 23 | 37 | DN150/DN125 |
CDL2000/40 | 70，000 | 1，500 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
CDL2000/50 | 125，000 | 1，100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
2 處理量取決于物料的粘度，稠度和zui終產品的要求。
3 如高溫，高壓，易燃易爆，腐蝕性等工況，必須提供準確的參數，以便選型和定制。
4 本表的數據因技術改動，定制而不符，正確的參數以提供的實物為準。
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